据江苏微导纳米科技股份有限公司近日宣布，研发的全球首台适用于TOPCon技术的ALD设备正式进入量产阶段。
据了解，微导研发的祝融系列(ZR4000X2)薄膜沉积设备平台，用于Topcon电池生产技术，产品已交用户使用，工艺参数的开发及优化取得重大技术突破，随着中试线的搭建完成，相应的高效Topcon电池即将面世。
祝融系列作为全球首创兼容PERC与TOPCon两种工艺技术的镀膜平台，其有着独特的设计理念。平台能很好地与目前量产PERC工艺兼容，技术首次通过一台设备完成三种工艺，相对于传统LPCVD设备沉积技术，将大幅改善N型电池正面多晶硅绕度面积与掺杂多晶硅镀膜速率降低的影响。设备兼容性还体现于硅片尺寸，P型背面钝化与N型电池正背面钝化技术。
基于Topcon电池结构，原有PERC线升级TOPCon路线，仅需新增一台祝融平台与一台对应的清洗机，以及一台硼扩（或者通过改造原PERC产线的磷扩散机台），就可以完成Topcon电池正面氧化铝/氮化硅 ,背面遂穿氧化层/多晶硅与氮化硅的钝化。体现了该设备优异的整合能力与生产的可调度性。固定资产投入具备竞争力，同时工艺路线也可简化与控制。
该设备平台制备的钝化膜体现了优异的镀膜均匀性和方阻均匀性，掺杂钝化效果也明显优于传统的磷扩散工艺，同时在钝化表现部分，也展现了综合的正背面钝化能力。
此外值得一提的是，微导纳米在2020年2月与光伏客户及南通大学合作研发的新一代高效太阳电池技术取得突破性进展。项目把原子层沉积（ALD）技术制备的超薄（~3nm）氧化铝薄膜应用于N型TOPCon结构商用电池（边长158.75mm衬底）的硼扩散正表面，取得了23.55%的超高转换效率，开路电压超过700mV，填充因子81%以上。
Topcon电池结构示意图
微导研发团队已将ALD技术应用于制备TOPCon结构的隧穿氧化层，继续发掘超薄超高钝化的先天优势。此外，项目开发的设备平台兼容poly-Si沉积，完全解决了LPCVD的绕镀问题，同时可实现在线掺杂。
微导纳米表示，Topcon电池技术极大地简化了电池生产工艺，性价比高，且能量转化率高，最有望作为下一代N型高效电池的切入点。目前，微导研发团队已在钝化材料实验中取得进展，相应的高效电池结果不久可期。
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